반도체 제조 분야에서는 장비가 매우 엄격한 순도와 안정성 기준을 충족해야 합니다. 당사의 코팅 및 라이닝 서비스는 화학적 부식, 표면 마모, 비의도적인 부착으로부터 장비를 보호하도록 설계되어, 까다로운 환경에서도 안정적인 성능을 보장합니다. 20년 이상의 경험을 바탕으로, 전자 화학 및 폴리머 생산 공정에 사용되는 부품 처리를 위해 설계된 클래스 1,000 및 클래스 10,000 클린룸 내에서 작업이 진행됩니다. 엄격한 환경 제어를 통해 오염을 최소화하고, 코팅된 표면이 화학 물질 저장과 반응 안정성에 필요한 순도 요구 사항을 충족하도록 합니다. 그 결과, 금속 이온 방출이 감소하고, 공정의 일관성이 향상되며, 도전체 제조 장비의 수명이 연장됩니다.

• 내식성
• 고순도
• 비점착성 표면
• 정전기 제어
• 저마찰

• 혼합 공정
• 여과 공정
• 건조 공정
• 이동식 탱크
• 저장 탱크
• 반도체 이송 및 세정 부품
• 충전탑
• 흡착 수지 컬럼

반도체 제조에 사용되는 반응기, 준비 탱크, 필터, 석영 리프팅 조작기(quartz lifting manipulator)와 같은 장비는 엄격한 순도 및 내화학성 기준을 충족하는 표면 보호 처리가 필요합니다.

플루오로폴리머 코팅 적용 사례

포토레지스트 준비 용기
고순도 PFA 코팅 처리로 총 금속 이온 함량을 1 ppb 이하, 금 이온 함량은 0.2 ppb 이하로 유지합니다. 또한, 저항률이 10⁻⁵에서 10⁻⁹ Ω·cm 범위이고 순도가 10 ppb에서 1 ppb까지 가능한 전도성 PFA도 제공합니다.

PI(폴리이미드) 반응 용기
반도체용 폴리이미드 소재 생산에 사용되는 반응기로, 고순도 PFA 코팅이 적용되어 금속 이온 오염을 최소화합니다. 엄격한 순도 기준을 충족하며, 총 금속 함량은 1 ppb 미만, 금 이온 함량은 0.2 ppb 미만입니다.

웨이퍼 이송 로봇
웨이퍼 이송 중 금속 이온 오염을 방지하기 위해 고청정 플루오로폴리머 코팅이 적용됩니다. 코팅은 세라믹 기판에도 적용할 수 있으며, 특정 ESD(정전기 방전) 보호 요구를 충족하기 위한 정전기 방지 옵션도 제공됩니다.

양면 정밀 연마 기계
반도체 기판, 트랜지스터, 정밀 광학 등 다양한 분야에 사용됩니다. 주요 부품에는 고순도 PFA 코팅이 적용되어 내식성을 제공하고 금속 오염을 줄입니다. 강산, 강알칼리, 유기용제에 대한 뛰어난 내구성을 자랑합니다.

쿼츠 리프팅 매니퓰레이터
석영 및 유사 기판을 불산을 포함한 화학물질 노출로부터 보호합니다. 코팅은 우수한 소수성 및 소유성 특성을 제공하여 세정액으로 인한 오염을 최소화합니다. -180 °C에서 260 °C까지의 온도 범위에 적합합니다.

웨이퍼 연마 장비

전자급 반응기 (고순도 PFA 코팅 적용)

포토레지스트 반응기 (고순도 PFA 코팅 적용)

PI 중합 장비용 PFA 코팅

교반용기 (고순도 PFA 코팅 적용)

ISO 클래스 5 클린룸 내 코팅

저희는 휴대용 용기, 수직 및 수평 탱크, 여과 장치 등 다양한 반도체 제조 장비를 위한 플루오로폴리머 라이닝 서비스를 제공합니다.저희는 PFA, ECTFE(F30, Halar), PVDF를 사용한 코팅 및 라이닝 서비스를 제공하며, G2부터 G5 등급까지의 고순도 수준을 구현할 수 있습니다. 모든 코팅 공정은 반도체 전용으로 설계된 클래스 1,000 클린룸에서 수행되며, 철저히 제어된 환경 속에서 오염을 최소화하고 다양한 장비에 대해 안정적이고 고품질의 마감 처리를 보장합니다. 공정 요구에 따라 PFA, ECTFE, PVDF 등의 재료를 사용하며, 순도 등급은 G3부터 G5까지 다양하게 적용됩니다. 모든 생산은 전용 클린룸 시설에서 이루어져, 라이닝 공정 전반에 걸쳐 일관된 품질과 높은 청정도를 보장합니다.

불소폴리머 라이닝 응용 예시

초고청정 불산 저장 탱크용 신규 PTFE 라이닝

전자급 화학 제품 저장용 PTFE 라이닝

PFA 라이닝 처리된 질소 삼염화물 반응 탱크

휴대용 탱크용 고순도 N-PTFE 라이닝

전자급 황산 용기용 N-PTFE GBK 라이닝

전자급 PFA 라이닝 처리된 카트리지 필터 하우징

PFA 라이닝 처리된 고온 도금 탱크